Kapton

Kapton je poliimidni film kojeg je razvio DuPont krajem 1960-ih i koji ostaje stabilan (izolirano) u širokom rasponu temperatura, od -269 do +400 °C .^[1][2] Kapton se, između ostalog, koristi u fleksibilnim štampanim pločama (fleksibilna elektronika) i svemirskim pokrivačima, koji se koriste na svemirskim letjelicama, satelitima i raznim svemirskim instrumentima.

Hemijski naziv za Kapton K i HN je poli (4,4'-oksidifenilen-piromellitimid). Proizvodi se iz kondenzacije piromelitnog dianhidrida i 4,4'-oksidifenilamina. Kapton sinteza je primjer upotrebe dianhidrida u koračnoj polimerizaciji. Intermedijarni polimer, poznat kao "poli (aminska kiselina)", topljiv je zbog jakih vodikovih veza sa polarnim rastvaračima koji se obično koriste u reakciji. Zatvaranje prstena vrši se na visokim temperaturama od 200–300 °C (392–572 °F; 473–573 K) .

Toplotna provodljivost Kaptona na temperaturama od 0,5 do 5 kelvina prilično je visoka za tako niske temperature, κ = 4,638 × 10 ⁻³ T ^0,5678 W · m ⁻¹ · K ⁻¹ .^[3] To ga je, zajedno s dobrim dielektričnim kvalitetama i dostupnošću kao tankih limova, učinilo omiljenim materijalom u kriogenici, jer pruža električnu izolaciju pri malim toplotnim gradijentima. Kapton se redovno koristi kao izolator u ultra visokim vakuumskim okruženjima zbog svoje male brzine ispuštanja gasova.^[4]

1. ^ "DuPont Circuit & Packaging Materials Awarded U.S. Patents for Matte Black Film and Coverlay". 15. 11. 2013. Arhivirano s originala, 23. 9. 2017. Pristupljeno 28. 5. 2015. DuPont invented Kapton® polyimide film over 45 years ago
2. ^ Navick, X.-F.; Carty, M.; Chapellier, M.; Chardin, G.; Goldbach, C.; Granelli, R.; Hervé, S.; Karolak, M.; Nollez, G. (2004). "Fabrication of ultra-low radioactivity detector holders for Edelweiss-II". Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section A. 520 (1–3): 189–192. Bibcode:2004NIMPA.520..189N. doi:10.1016/j.nima.2003.11.290.
3. ^ Jason Lawrence, A. B. Patel and J. G. Brisson (2000). "The thermal conductivity of Kapton HN between 0.5 and 5 K". Cryogenics. 40 (3): 203–207. Bibcode:2000Cryo...40..203L. doi:10.1016/S0011-2275(00)00028-X.
4. ^ Peter Kittel (30. 9. 1998). Advances in Cryogenic Engineering. Birkhäuser. str. 1366–. ISBN 978-0-306-45807-1. Pristupljeno 29. 4. 2012.