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800 nm (ou encore 0,8 µm) est l'évolution du procédé de fabrication des semi-conducteurs précédent à 1 µm.
Cette technologie des semi-conducteurs a été atteinte en 1989-1990 par les sociétés de semi-conducteurs, comme Intel ou encore IBM.
Le successeur de ce procédé utilise une largeur de canal de 600 nm.
